技術(shù)文章_第(52)頁－上海爾迪儀器科技有限公司

: plasma清洗機在半導體制造中的應(yīng)用2024-11-06

在半導體制造中，plasma清洗機是一種非常重要的設(shè)備，用于清潔和處理半導體器件表面，以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機和無機雜質(zhì)，同時可以改變表面的化學性質(zhì)，從而提高器件的性能。在半導體制造中，plasma清洗機主要用于以下幾個方面：1、清洗表面：在半導體器件的制造過程中，表面往往會被污染或覆蓋有氧化物等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會影響器件......

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等離子處理相對于其他處理方式的優(yōu)勢 2021-07-27

等離子體對材料產(chǎn)生作用的機理處于等離子狀態(tài)的物質(zhì)具有高而不穩(wěn)定的能量水平。如果等離子接觸到固體材料（如塑料和金屬），其能量將作用于固體表面，并導致物體表面的重要性質(zhì)（如表面能量）發(fā)生變化。在各項制造應(yīng)用領(lǐng)域，可以利用這一原理對材料的表面特性進行有選擇地更改。使用等離子能量對物體表面進行處理，能夠準確且有針對性地提升材料......

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等離子蝕刻機的原理和應(yīng)用，快來了解一下！ 2021-07-26

等離子體是部分離化的中性氣體，在等離子體中自由電子與中性分子，原子進行碰撞，通過碰撞電離，進一步得到更多的電子和離子?；陔娮拥哪芰浚梢垣@得更豐富的離子，激發(fā)態(tài)高能中性粒子等，同時由于電子吸附在中性氣體表面還可獲得負離子?？涛g方法在塑料印刷和粘合時作為預處理手段是十分重要的，等離子蝕刻機用于刻蝕塑料表面，通過氧氣可以......

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誰知道等離子去膠機的原理？ 2021-07-22

等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強的電磁場，使氧氣電離，形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧（活潑的原子態(tài)氧）可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體，被機械泵抽走，這樣......

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影響等離子去膠機處理效果的四大因素 2021-07-22

等離子去膠機是適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設(shè)備，主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于有機及無機殘留物的去除，去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用，清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架，提高黏附性等，它的設(shè)計緊湊，占地面積小，設(shè)備運行穩(wěn)定可靠、易于維護、產(chǎn)能高。它的工藝簡單、效率高，處理后無酸氣廢水等殘留......

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